中企天價薪酬聘用ASML前工程師 製成中國首部極紫外光光刻機原型機 逆向工程惹爭議

在深圳一座保安森嚴、猶如軍事堡壘的實驗室內，一台體積龐大、幾乎佔據整層廠房的巨型機器正在發出幽藍的光芒。這不是科幻電影的場景，而是中美科技冷戰中最關鍵的一場戰役：中國企業據報憑著以天價薪酬聘用的荷蘭光刻機巨頭ASML的多名華裔前工程師，加上大量專家進行逆向工程，發掘出ASML光刻機的最高機密，終成功研製出中國首部自家「極紫外光（EUV）光刻機」原型機，有機會突破美國的AI晶片封鎖，在2028年量產高質晶片。這場被喻為「中國版曼哈頓計劃」、機密性及重要性或媲美原子彈研究的科研計劃背後，並非單純的技術攻關，而是一場涉及無上限天價挖角、商業機密爭議以及一群「隱形」華裔工程師的豪賭，卻也令中國捲入抄襲甚至盜竊西方最先進科技的爭議之中。

突破封鎖的「蒙面」救兵

在中美科技戰的棋局中，EUV光刻機一直被視為中國半導體產業的「絕對弱點」。因為沒有它，7納米以下的先進晶片量產恐怕無從談起。然而，路透社及多方消息證實，中國已在今年初取得突破性進展，成功令EUV原型機運行並產生極紫外光。

這項技術突破的功臣，並非憑空而降。據接近項目的知情人士透露，這是一支由荷蘭光刻機霸主ASML（艾司摩爾）前華裔工程師組成的「秘密特種部隊」。為了繞過西方的技術圍堵，中國支持的企業據報採取了最直接且激進的人才策略：「無上限」薪酬挖角。

這批核心團隊成員多為華裔工程師及科學家，部分人甚至是剛從ASML光刻機生產公司退休即被招攬。他們據報被中國國家支持的巨企及相關機構，以令人咋舌的薪金待遇聘請到深圳。然而，這份高薪背後包含了巨大的風險溢價（Risk Premium）。這些工程師被要求使用假名匿名工作，部分有外籍人士亦獲准持有雙重國籍，身分被列為最高機密。這不僅是為了防範美國情報部門的追蹤，更是為了應對未來可能面臨的法律風暴，保護這些工程師免因洩密指控而遭ASML或歐美國家追究甚至刑事檢控的必要措施。

逆向工程：拆解巨人的秘密

除了「買人」，中國更在「拆機」。消息指，這台國產EUV原型機能成功誕生，很大程度上是依賴於「逆向工程」（Reverse Engineering）。儘管ASML近年從未向中國出售EUV設備，但據報另有中國巨企透過二手市場收購舊款機型及零部件，再透過包括ASML前工程師帶領大量中國本土專家及大學畢業高才生，進行拆解、研究與複製。這種做法在業內被視為暴力破解的逆向工程：不惜犧牲昂貴的設備，只為窺探其中的精密結構原理及最高商業機密。

然而，複製並非完美。知情人士形容，這台深圳製造的原型機尺寸遠大於ASML的原廠設備，宛如一台「科學怪人」。原因在於中國無法獲得德國蔡司（Carl Zeiss）提供的頂級光學鏡頭系統，只能用體積更龐大、精度較低的國產或替代光學組件來「硬砌」。雖然原型機能產生極紫外光，但要在納米級別的晶圓上精確刻蝕電路，仍是極巨大的挑戰。

高薪背後的「封口費」與法律地雷

這場豪賭最受爭議之處，在於其潛在的法律風險。業界普遍認為，這批前ASML工程師的行為極可能觸犯了商業機密法。ASML的技術生態系統涉及數十萬個零部件及專利，單憑記憶或公開資料極難複製。

中國方面顯然意識到這一點。所謂的「天價薪酬」，某種程度上是「安家費」甚至是「風險補償金」。一旦這些工程師日後離開中國，或前往與美國有引渡條約的國家，隨時面臨被ASML索償，甚至被美國及荷蘭當局以盜竊商業機密罪名刑事檢控的風險。他們的職業生涯乃至人身自由，已與這台國產光刻機徹底綁定。

2028年的量產夢：現實與願景的落差

目前，中國政府設定的目標是在2028年生產出可用的先進晶片。若能成真，這將意味著中國在半導體領域將不再受制於美國。然而，業內分析師普遍認為，從「點亮光源」到「高良率量產」，中間仍有鴻溝。因ASML研發EUV耗時逾20年，且依賴全球最頂尖的供應鏈（如德國的光學、美國的光源）。中國雖然傾舉國之力，兼由中國巨企穿針引線，但在缺乏核心光學組件的情況下，2028年或許過於樂觀。有分析指2030年量產高質晶片，或是更現實的時間點。但屆時，即便中國能造出EUV晶片，ASML可能已在High-NA EUV（高數值孔徑）技術上走得更遠，技術代差依然存在。

深圳實驗室裡的這台原型機，既是中國科技自立的象徵，也是全球半導體知識產權戰的風暴眼。這場由國家意志推動、以天價資本與法律風險為代價的「曼哈頓計劃」，能否真正打破美國的封鎖，抑或最終受困於良率與專利訴訟的泥沼？答案將在未來幾年內揭曉，而這批「隱形」工程師的命運，也將隨之起伏。

Text by BusinessFocus Editorial

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